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| Stephen A. Campbell：明尼苏达大学电子与计算机工程系教授兼明尼苏达大学微技术实验室主任。无论是在工业界还是在大学实验室，他的斗导体器件制造领域都有着广泛的经验。他的研究领域主要包括快速热化学气相淀积、高性能栅介质、磁MEMS和纳米结构等。 |
| 第1篇 综述与题材 第1章 微电子制造引论 第2章 半导体衬底 第2篇 单项工艺I：热处理和离子注入 第3章 扩散 第4章 热氧化 第5章 离子注入 第6章 快速热处理 第3篇 单项工艺2：图形转移 第7章 光学光刻 第8章 光刻胶 第9章 非光学光刻技术 第10章 真空科学和等离子体 第11章 刻蚀 第4篇 单项工艺3：薄膜 第12章 物理淀积：蒸发和溅射 第13章 化学气相淀积 第14章 外延生长 第5篇 工 艺 集 成 第15章 器件隔离、接触和金属化 第16章 CMOS技术 第17章 GaAs工艺技术 第18章 硅双极型工艺技术 第19章 微机电系统 第20章 集成电路制造 附录A 缩写与通用符号 附录B 部分半导体材料性质 附录C 物理常数 附录D 单位转换因子 附录E 误差函数的一些性质 附录F F数 附录G SUPREM指令 |
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